鍍銅工藝在電鍍、電子制造等領域廣泛應用,但其產生的含氰廢水具有高毒性、難降解等特性,若不妥善處理將對環境和人類健康造成嚴重危害。本文依斯倍環保將針對鍍銅過程中產生的含氰廢水,提出一套高效、可行的鍍銅含氰廢水處理工藝。
隨著現代工業的發展,電鍍行業在金屬表面處理中占據重要地位,而鍍銅作為其中常見工藝之一,廣泛應用于印制電路板(PCB)、汽車零部件、五金制品等領域。然而,鍍銅廢水中常含有高濃度的氰化物和銅離子,屬于典型的有毒有害廢水,必須進行有效治理。
含氰廢水的主要污染物為游離氰離子(CN?)及其絡合物(如銅氰絡合物),這些物質具有極強的毒性和生物累積性,直接排放會對水體生態系統和人體健康造成嚴重威脅。因此,開發一種高效、經濟、穩定的鍍銅含氰廢水處理與回用工藝顯得尤為重要。
鍍銅含氰廢水處理采用“預處理 + 化學氧化 + 重金屬去除 + 膜分離 + 高級氧化 + 回用”組合的處理路線,具體流程如下:
預處理(格柵 + 調節池)
格柵:攔截大顆粒懸浮物,防止后續設備堵塞;
調節池:均質均量,穩定進水水質與水量。
化學氧化(堿性氯化法)
采用次氯酸鈉(NaClO)在堿性條件下對氰化物進行兩級氧化處理:
一級氧化:pH=10~11,CN?被氧化為氰酸鹽(CNO?);該方法能有效破壞氰化物毒性,降低COD。
重金屬去除(硫化物沉淀 + 石灰沉淀)
硫化鈉(Na?S)沉淀法:用于優先去除銅離子,生成CuS沉淀;
石灰沉淀法:加入Ca(OH)?,使剩余重金屬形成氫氧化物沉淀,同時調節pH值至中性。
膜分離系統(超濾 + 反滲透)
經前段處理后的出水進入膜系統進行深度凈化:
超濾(UF):去除殘余膠體、懸浮物和部分有機物;
反滲透(RO):截留溶解性鹽類、微量金屬離子和小分子有機物,產水達到回用水標準。
高級氧化(臭氧/UV/H?O?體系)
對于RO濃水或難降解有機物,采用高級氧化技術(AOPs)進行深度處理:
利用臭氧、紫外光與過氧化氫協同作用,生成羥基自由基(·OH),快速分解復雜有機物;
實現徹底礦化,提高COD去除率。
鍍銅含氰廢水處理是一項系統工程,需結合多種技術手段才能實現高效去除與資源化利用。本文提出的“化學氧化—重金屬沉淀—膜分離—高級氧化”聯合工藝具有處理效果穩定、運行成本低、自動化程度高等優點,適用于中小型電鍍企業廢水處理。
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